‘고압가스 안전관리법 시행령’ 개정안 의결

반도체 제조용 EUV 노광장비 현장 설치 제품./ 산업부 제공

[대한경제=신보훈 기자] 정부가 반도체 초미세 공정의 핵심 장비인 극자외선(EUV) 노광장비의 국내 도입 절차를 대폭 간소화한다. 이에 따라 삼성전자와 SK하이닉스 등 국내 반도체 기업들의 EUV 장비 도입기간이 기존 34일에서 9일로 최대 25일 단축될 전망이다.

산업통상부는 2일 국무회의에서 글로벌 안전기준을 충족한 반도체 제조장비에 대해 고압가스 일반제조시설이 아닌 '특정설비' 기준을 적용하도록 하는 '고압가스 안전관리법 시행령' 일부개정안이 의결됐다고 밝혔다.

그동안 반도체 제조 공정에 필수적인 EUV 장비는 내부에 고압가스 배관과 장치가 포함돼 있어 현행 법령상 '고압가스 제조설비'로 분류되어 왔다. 이 때문에 장비를 들여와 설치할 때마다 매번 복잡한 기술 검토와 안전 검사를 반복해서 받아야 했고, 이 과정에서 장비 도입이 지연되거나 현장 기업들의 부담이 가중된다는 목소리가 지속적으로 제기됐다.

이번 규제 혁신으로 EUV 장비가 '특정설비'로 전환 관리되면서, 기존 34일이 소요되던 검사 절차 기간이 9일로 줄어들게 된다. 세부적으로는 15일이 걸리던 기술검토가 2일로 단축되며, 장비당 약 5억원의 비용이 발생하던 해외 공인검사기관의 내압·기밀 중간검사가 전면 생략된다. 정부는 규제 완화에 따른 안전 공백을 막기 위해 3년 주기의 공장심사와 종합공정검사를 도입하여 제조사의 품질 관리 능력을 철저히 검증할 계획이다.

아울러 이번 개정안에는 물과 세제 대신 이산화탄소를 사용하는 친환경 '액화 이산화탄소 세정설비'의 국내 최초 상용화를 위한 맞춤형 검사기준을 신설한다. 위험성이 비교적 낮은 고압가스시설의 안전관리자 자격요건 및 선임기준을 현실에 맞게 완화하는 내용도 함께 포함됐다.

김정관 산업부 장관은 “이번 법령 개정은 국민의 안전 확보와 첨단산업의 글로벌 경쟁력 강화를 동시에 달성하기 위한 대표적인 규제혁신 사례”라며 “앞으로도 글로벌 기준에 부합하는 합리적 안전관리 체계를 통해 첨단산업 투자를 적극 지원해 나가겠다”고 밝혔다.


신보훈 기자 bbang@

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